真空薄膜工艺|-60℃~-100℃复叠低温冷水机组

  行业资讯     |      日期:2026-09-01

真空薄膜工艺|-60℃-100℃复叠低温冷水机组

适配磁控溅射、电子束蒸发、光学真空镀膜、PVD 薄膜沉积,用于真空冷阱水汽捕集、基片台低温控温、腔体深冷冷却,替代液氮冷源,实现产线连续化生产。

工艺工况说明

真空薄膜工艺中,-60℃~-100℃复叠机组主要两大用途:

真空冷阱冷却:冷凝捕获腔体内水汽、油蒸汽、有机挥发物,快速拉高真空度,降低分子泵负荷,减少薄膜针孔、雾斑、杂质缺陷。

基片 / 基板低温控温:基材在低温环境完成薄膜沉积,控制膜层应力,提升薄膜致密性、附着力,适配光学膜、功能涂层、半导体薄膜制备。

常规单级冷水机**仅-40℃,无法覆盖-60~-100℃区间,必须采用双级/多级复叠制冷循环实现稳定深冷输出。

江苏康士捷工业控温设备 产品规格汇总

一、全系列温度机型覆盖

高温型:5℃35℃

中温型:-5℃-40℃

低温型:-40℃-80℃

低温型:-150℃-80℃

冷热两用型:-150℃+300℃

二、设备定制及功能配置

制冷量规格齐全,可适配不同工况负荷

可选特殊机型:防爆型、防腐型、撬装式、变频型

支持非标定制,按需适配现场安装及工艺要求

控温精度可选:温度稳定精度 ±0.1℃

 

江苏康士捷机械设备有限公司

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